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关键词: HG/T 3729

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HG/T 3729-2004 射频式物理场水处理设备技术条件

1范围

HG/T 3729-2004规定了射频式物理场水处理设备的分类与命名要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输及贮存。

HG/T 3729-2004适用于水温不大于100°C ,设计压力不大于1. 6 MPa的射频式物理场水处理设备。

4.2设备结构

射频式物理场水处理设备一般由电控箱和水处理设备组成。电控箱指射频发生器及控制电路总成;水处理设备由发射极、换能器,复合过滤层、简体、进出水口、排污口等构成。电控箱与水处理设备既可组装为一体,也可分体安装,进出水口相对位置可根据安装要求而改变,图1为射频式物理场水处理设备基本结构示意图。

注1:SFH为复合过滤型工频过滤设备。

注2:SG、SF、SZ必须与SFH配套使用。

注3:本标准规定的水处理设备使用温度范围小于100℃(其中SJZ型设备使用温度小于等于95°C)。

5.1.3 电气安全性

5.1.3.1射频式物理场水处理设备的带电回路与外壳或简体的绝缘电阻应符合如下规定:

a)电控箱的电源线对其外壳的绝缘电阻大于等于20MΩ。

b)发射极对其筒体的绝缘电阻大于等于50MΩ。

c)换能器对其筒体的绝缘电阻大于等于10MΩ。

5.1.3.2电控箱在规定的使用条件下，输出电气参数应稳定,并能经受住极端温度性能试验和连续运行试验。

5.1.3.3射频式物理场水处理设备在整体完好状态下的电磁辐射强度应符合GB 8702与GB 9175的规定。

5.1.4 简体强度

5.1.4.1 简体的强度应符合JB/T 2932中的各项规定。

5.1.4.2筒体强度应满足水处理设备在工作范围内承受最大允许工作压力。

5.1.4.3简体应进行应力校核,满足相应钢材的许用应力。

5.1.4.4筒体应进行水压试验。

5.1.4.5简体设计应考虑腐蚀余量不小于1 mm。

5. 1.4.6 简体壁厚应根据设计参数选择,但最小壁厚不小于6 mm。

5.2使用、安装条件

5.2.1水温、水质的使用要求

5.2.1.1水温应不大于100°C (SFH、SJZ型应不大于95°C),压力应小于1. 6 MPa。

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